多晶硅，是单质硅的一种形态，是很重要的优良半导体材料。多晶硅可用于半导体工业、电子信息产业、太阳能光伏电池产业最主要、最基础的功能性材料，多晶硅生产主要是采用改良西门子法，改良西门子法生产多晶硅的反应器主要是采用多晶硅还原炉，该方法是将多晶硅还原炉内安装沉积载体通电发热，在多晶硅还原炉内将高纯度氯硅烷与氢气的混合气体加热到1000℃以上发生反应生成硅，硅沉积在上述沉积载体上的过程。

  在多晶硅生产的全部过程中，还原炉钟罩表面上会沉积一定厚度的多晶硅副产物、硅粉等，但是，多晶硅生产对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键，任何颗粒性杂质、物料等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。所以，在还原炉运行一个周期结束后，都需要把钟罩用行车吊到清洗装置平台上对钟罩进行清理洗涤干净后，在装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。

  通常，对于多晶硅还原炉钟罩清洗最重要的包含清洗和烘干两个过程，过去以人工清洗为主，不安全，不环保，清洗的一致性也很难保证，清理洗涤效果差，自动化程度低，效率不高。为此德高洁自主研发并投入到正常的使用中了一套自动化高压水多晶硅还原炉钟罩清洗系统，大多数都用在西门子法多晶硅还原炉钟罩(炉筒)内壁的全自动清洗和烘干。

  其工作原理是以水力自驱动三维自动旋转喷头，形成360°的网状喷射表面，完成钟罩内部表面的水力扫射，用专用清洗剂等为主要清洗液，用纯水(去离子水或叫脱盐水)漂洗，用高纯水冲洗，完成清洗过程。其后用经过三级净化(10万级)的纯净空气，梯级加热，保证烘干完的钟罩不再结露，可立即进入生产作业，采用全密闭式清洗烘干方式，基本消除了对现场及操作人员的污染。

  系统采用PLC+触摸屏柔性自动控制系统，实现对还原炉钟罩的自动清洗和烘干同时具有半自动或手动功能。系统清洗流程：还原炉钟罩到位→预清洗→清洗剂(碱液)清洗→漂洗→高纯水冲洗→净化热空气干燥→常温干燥→钟罩吊走，一套系统实现多种型号还原炉钟罩的清洗烘干。

  多晶硅还原炉清理洗涤设施是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备，也是决定系统产品质量、成本的关键环节。德高洁多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统采用环保工艺搭配清理洗涤设施，结合自动化智能化的清洗方式，不仅仅可以提高多晶硅还原炉钟罩的清洗效率及安全性，更能够为多晶硅还原炉钟罩清洗时的质量、环保等问题进行加持，目前系统已经覆盖90%的多晶硅生产企业，为多晶硅还原炉生产厂商提供更环保、高效、安全的还原炉钟罩自动清解决方案，为多晶硅生产行业的加快速度进行发展助力。返回搜狐，查看更加多